№
8420

Patent 8420

Iraqi patent 8420

Patent no.	8420
Abstract	( 51 )التصنيف:الدولي G01W1/02 G01N25/00 ( 52 )التصنيف المحلي20 ( 72) اسم المخترع وعنوانه د.عماد جليل مهدي وزارة التعليم العالي والبحث العلمي/ هيئة البحث /العلمي مركز بحوث وتكنولوجيا البيئة والمياه والطاقات المتجددة د. حسين فوزي حسين وزارة التعليم العالي والبحث العلمي/هيئة البحث العلمي/مركز بحوث التطبيقات الصناعية وتكنولوجيا المواد ( 73 ) اسم صاحب البراءة وعنوانه وزارة التعليم العالي والبحث العلمي /هيئة البحث العلمي100 % ( 74 )اسم الوكيل وعنوانه ( 21 ) رقم طلب البراءة IQ/00230562 ( 22 ) تاريخ التقديم 2023/10/2 ( 45)تاريخ المنح 2025/6/18 ( 30 ) الاسبقية الرقم التاريخ البلد ( 54)عنوان الاختراع: تصنيع وتقييم متحسس . تراكم الغبار بتقنية التأثير الحراري ( 57) الملخص السعي اليجاد الحلول لمعالجة بعض المشاكل الفنية في التطبيقات الشائعة هي احدى الاهتمامات للشركات العالمية ، ومن هذه المشاكل هي معالجة وتحسس كمية تراكم الغبار على بعض التطبيقات ومنها منظومات الطاقة الشمسية المتنوعة .تتضمن فكرة الأختراع تصنيع متحسس لتراكم الغبار يعتمد على تقنية تأثير الاحتباس الحراي نتيجة سقوط الاشعاع الشمسي على كابينة لها واجهة زجاجية شفافة ونافذة لضوء الاشعاع الشمسي والمتحسس متكون من كابنتين لهما نفس الحجم ونفس التصميم لكن متعاكستين بالاتجاه فاحداهما وجهتها الى الاعلى والثانية واجهتها الى الاسفل وتكون كال الكابنتين معزولتين حراريا من الجوانب الاخرى لمنع التسريب الحراري من داخل الكابينة والتبادل الحراري مع المحيط الخارجي .علما ان فكرة هذا المتحسس تعتمد على وجود سطحين متعاكسين في الاتجاه، الاعلى والاسفل، احد الوجهين يستلم الاشعاع الشمسي الساقط عليه بصورة مباشرة والوجه الثاني يستلم الاشعاع الشمسي المرتد من السطوح القريبة عليه .وفي العادة ستكون نسبة الاشعاع الساقط على الوجه الاول وهو لالعلى والاشعاع الشمسي المرتد على سطح الوجه الثاني متساوية يومية لثبات الظروف المحيطة بالمتحسس، الا في حالة تراكم الغبار على السطح الاول والذي سيعمل الغبار على توهين الاشعاع الشمسي الساقط على هذا الوجه وبالتالي اختالف نسبة الاشعاع الساقط والمرتد على المتحسس، وبالتالي اختالف نسبة الاحتباس الحراري داخل كابينات المتحسس ، وبهذا يمكن تحسس هذا الاختالف ومعالجته الكترونيا باستخدام الوحدات اردوينو الاكترونية
Official source	Open the official publication